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JOURNAL OF LASER APPLICATIONS

來源: 樹人論文網 瀏覽次數:216次
創刊時間:1988
所屬分區:4區
周期:Quarterly
ISSN:1042-346X
影響因子:1.443
是否開源:No
年文章量:118
錄用比:容易
學科方向:材料科學:綜合
研究方向:物理
通訊地址:LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826
官網地址:http://scitation.aip.org/content/lia/journal/jla
投稿地址:http://jla.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex
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JOURNAL OF LASER APPLICATIONS雜志中文介紹

激光應用雜志(JLA)是美國激光研究所(LIA)的科學平臺,與AIP出版社合作出版。高質量的文章涵蓋從基礎和應用的研究和開發到工業應用的廣泛范圍。因此,JLA反映了光子生產、傳感和測量以及激光安全性方面的研發現狀。由于當前巨大的社會挑戰,如資源節約、能源、移動、健康和國防,應用光子學的焦點和趨勢在過去幾年發生了顯著的變化。因此,JLA的結構已經得到了改進,以滿足這些趨勢,同時根據科學領域的能力保持結構。下列國際知名的一流科學家擔任9個新類別的編委:用超快激光加工高精度材料- Andreas Ostendorf激光增材制造——米蘭·勃蘭特高功率材料加工與高亮度激光-埃克哈德拜爾激光技術在高性能/多功能材料和結構中的新興應用——顧東東表面改性-鐘敏林激光在納米制造/納米光子學和薄膜技術-蘭江光譜/成像/診斷/測量- Dave Farson激光系統和市場-克勞斯洛夫勒醫療應用與安全-戴夫斯利尼

JOURNAL OF LASER APPLICATIONS雜志英文介紹

The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety. Due to the current grand societal challenges such as resource saving, energy, mobility, health and defense the foci and trends of applied photonics have been changing over the past years, significantly. Hence, the structure of JLA has been improved to meet these trends, yet maintaining the structure according to scientific areas of competence. The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers – Andreas OstendorfLaser Additive Manufacturing – Milan BrandtHigh Power Materials Processing with High Brightness Lasers – Eckhard BeyerEmerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures – Dongdong GuSurface Modification – Minlin ZhongLasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology – Lan JiangSpectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements – Dave FarsonLaser Systems and Markets – Klaus L?fflerMedical Applications & Safety – Dave Sliney

JOURNAL OF LASER APPLICATIONS影響因子

JOURNAL OF LASER APPLICATIONS影響因子0.6520.6940.4070.5741.3381.7981.0781.4921.5971.443JOURNAL OF LASER APPLICATIONS2010年2011年2012年2013年2014年2015年2016年2017年2018年2019年0.250.50.7511.251.51.752中科院JCR分區趨勢圖樹人論文網(istpei.com)
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