微細(xì)加工技術(shù)雜志基礎(chǔ)信息：

《微細(xì)加工技術(shù)》雜志創(chuàng)刊于1983年，是國家科委和國家新聞出版署批準(zhǔn)，國內(nèi)外公開發(fā)行的中央級(jí)重要科技期刊。

微細(xì)加工技術(shù)雜志期刊榮譽(yù)：

《微細(xì)加工技術(shù)》雜志是國家一級(jí)檢索刊物，已連續(xù)9年被美國工程信息公司Ei數(shù)據(jù)庫收錄，是《中國期刊網(wǎng)》、《中國學(xué)術(shù)期刊（光盤版）》、《中國學(xué)術(shù)期刊綜合評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)庫》全文收錄用刊，是《中國科學(xué)引文數(shù)據(jù)庫》來源期刊。

微細(xì)加工技術(shù)雜志欄目設(shè)置：

本刊主要欄目：綜述、電子束技術(shù)、離子束技術(shù)、光子束技術(shù)、薄膜技術(shù)、微機(jī)械加工技術(shù)、納米技術(shù)。

微細(xì)加工技術(shù)雜志訂閱方式：

ISSN：1003-8213，CN：43-1140/TN，地址：長沙市新開鋪路1025號(hào)48所湯輝收，郵政編碼：410111。

微細(xì)加工技術(shù)雜志社相關(guān)期刊

電子設(shè)計(jì)技術(shù)雜志光電技術(shù)應(yīng)用雜志光電子技術(shù)雜志電子工藝技術(shù)雜志山西電子技術(shù)雜志激光技術(shù)雜志紅外技術(shù)雜志電子技術(shù)雜志電子測量技術(shù)雜志微納電子技術(shù)雜志

微細(xì)加工技術(shù)雜志社投稿信息

（一）基本要求來稿要求題材新穎、內(nèi)容真實(shí)、論點(diǎn)明確、層次清楚、數(shù)據(jù)可靠、文句通順。文章一般不超過5000字。投稿請(qǐng)寄1份打印稿，同時(shí)推薦大家通過電子郵件形式投稿。

（二）文題文題要準(zhǔn)確簡明地反映文章內(nèi)容，一般不宜超過20個(gè)字，作者姓名排在文題下。

（三）作者與單位文稿作者署名人數(shù)一般不超過5人，作者單位不超過3個(gè)。第一作者須附簡介，包括工作單位、地址、郵編、年齡、性別、民族、學(xué)歷、職稱、職務(wù)；其它作者附作者單位、地址和郵編。

（四）摘要和關(guān)鍵詞所有論文均要求有中文摘要和關(guān)鍵詞，摘要用第三人稱撰寫，分目的、方法、結(jié)果及結(jié)論四部分，完整準(zhǔn)確概括文章的實(shí)質(zhì)性內(nèi)容，以150字左右為宜，關(guān)鍵詞一般3～6個(gè)。

（五）標(biāo)題層次一級(jí)標(biāo)題用“一、二、……”來標(biāo)識(shí)，二級(jí)標(biāo)題用“（一）、（二）、……”來標(biāo)識(shí)，三級(jí)標(biāo)題用“1.2.”來標(biāo)識(shí)，四級(jí)標(biāo)題用“（1）、（2）”來標(biāo)識(shí)。一般不宜超過4層。標(biāo)題行和每段正文首行均空二格。各級(jí)標(biāo)題末尾均不加標(biāo)點(diǎn)。

（六）計(jì)量單位、數(shù)字、符號(hào)文稿必須使用法定的計(jì)量單位符號(hào)。

（七）參考文獻(xiàn)

限為作者親自閱讀、公開發(fā)表過的文獻(xiàn)，只選主要的列入，采用順序編碼制著錄，按其文中出現(xiàn)的先后順序用阿拉伯?dāng)?shù)字編號(hào)，列于文末，并依次將各編號(hào)外加方括號(hào)置于文中引用處的右上角。書寫格式為：作者.文題.刊名年份；年（期）：起始頁.網(wǎng)上參考材料序號(hào).作者.文題網(wǎng)址（至子－－欄目）.上傳年月。

為保證本刊的權(quán)威性，杜絕任何形式的抄襲稿。稿件文責(zé)由作者自負(fù)，編輯部有權(quán)作必要的修改。文稿在3個(gè)月內(nèi)未收到退修或錄用通知，作者可自行處理，另投他刊。未被錄用的稿件一般不退稿，請(qǐng)自留底稿。

微細(xì)加工技術(shù)雜志社編輯部征稿用過濾式電弧沉積系統(tǒng)制備類金剛石薄膜三元硅化物(CoxNil-x)Si2薄膜的制備及特性亞微米分步重復(fù)投影光刻機(jī)總體設(shè)計(jì)考慮的幾個(gè)問題紫外光寫入的光纖Bragg光柵電子束偏放輸出溫度漂移的自動(dòng)補(bǔ)償0.1微米電子束曝光機(jī)成像系統(tǒng)的計(jì)算激光直寫系統(tǒng)制作掩模和器件的工藝LIGA技術(shù)制作Fresnel波帶片的研究金屬型場發(fā)射陣列的研究一種微摩擦力光學(xué)測試方法SU-8環(huán)氧樹脂的分離實(shí)驗(yàn)研究利用等離子體表面預(yù)處理改善光掩模IP膠顯影工藝特性多層薄膜微結(jié)構(gòu)熱應(yīng)力計(jì)算脈沖電鍍制備硅基細(xì)晶鎳鐵合金薄膜PECVD法制備的ZnO薄膜結(jié)晶性能的影響采用氨化技術(shù)制備成簇生長的光滑線狀氮化鎵痕量爆炸物爆燃探測敏感元件的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)新型壓電微噴的研制硅柵干法刻蝕工藝中腔室表面附著物研究MEMS微電磁驅(qū)動(dòng)器磨損對(duì)光開關(guān)性能的影響分析